磁控濺射原理

磁控濺射鍍膜技術(shù)在輝光放電中進(jìn)行，膜層粒子來源于輝光放電中的氬離子對(duì)陰極靶材產(chǎn)生的陰極濺射作用。濺射下來的膜層原子沉積到工件上形成所需膜層。

柱狀磁控濺射靶的優(yōu)點(diǎn)

1、比平面靶的靶材利用率高。在鍍膜過程中，無論是旋磁型還是旋靶管型，靶管表面各個(gè)部位連續(xù)經(jīng)過永磁體前面產(chǎn)生的濺射區(qū)接受陰極濺射，靶材可以收到均勻的濺射刻蝕，靶材利用率高達(dá)80%-90%。

2、不容易產(chǎn)生“靶中毒”。鍍膜過程中靶管表面始終受到氬離子的濺射刻蝕，表面上不容易積存很厚的氧化膜等絕緣膜。

3、柱狀磁控濺射靶結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，安裝方便。

4、靶管材料成分多樣。
目前，在產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)中采用旋靶管型柱狀磁控濺射靶進(jìn)行鍍膜的比例在增加;而且不單是立式鍍膜機(jī)，卷繞鍍膜機(jī)中的孿生靶也在用柱狀磁控靶。近幾年逐漸用柱狀孿生靶替代平面孿生靶。

STARPOWER-柱狀磁控濺射靶

磁控濺射靶形狀有柱狀靶、平面靶、圓錐靶。目前我公司僅制造柱狀磁控靶。在柱狀濺射靶上付出了大量的精力做測(cè)試和研發(fā)，靶頭用料考究、堅(jiān)固可靠、結(jié)構(gòu)合理，靶芯磁場(chǎng)分布均勻、密封性佳、水冷卻效果好，靶材均勻?yàn)R射、利用率高。靶芯長(zhǎng)度可達(dá)0.3-3米。適合大部分鍍膜機(jī)規(guī)格。如有特殊要求，可量身定制。